光刻

逆向光刻技术的新进展与应用

年月日发(作者：请简述与之间的区别)逆向光刻技术的新进展与应用逆向光刻技术是指在光刻过程中将模板图案反转后进行曝光的一种新型光刻技术。其原理是利用光子在电子束正交于表面的情况下，通过逆向的光刻胶层，最终形成与模板图案相反的主图案结构。随着科

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