光刻

逆向光刻技术的新进展与应用

年月日发(作者：请简述与之间的区别)逆向光刻技术的新进展与应用逆向光刻技术是指在光刻过程中将模板图案反转后进行曝光的一种新型光刻技术。其原理是利用光子在电子束正交于表面的情况下，通过逆向的光刻胶层，最终形成与模板图案相反的主图案结构。随着科

技术光刻逆向制造

admin 5月前

30 0
光刻技术的现状和发展

光刻技术的现状和发展

光刻技术光源 光刻机 发展

admin 2024-3-20

22 0
解密光刻机巨头ASML的崛起之路

解密光刻机巨头ASML的崛起之路

技术光刻 光刻机

admin 2024-3-20

15 0