氣體

半导体制程参数

年月日发(作者：字符转化为码)靶譯意為靶，一般用在金屬濺鍍()也就是以某種材料，製造成各種形狀，用此靶，當做金屬薄膜濺鍍之來源。介電質層崩潰的時間依存性利用介電質崩潰時間()與外加電場(電壓)的線性模型，作加速測試()，對產品(介電質)壽命

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