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2024年12月28日发(作者：deepin linux系统安装教程)

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：The method of manufacturing an electronic

device and a method of manufacturing a

semiconductor device

发明人：美濃 規央,竹内 孝之,北岡 康夫

申请号：JP2008520591

申请日：20070605

公开号：JPWO2007142238A1

公开日：20091029

专利附图：

摘要： Production method of the present invention is a method of manufacturing a

semiconductor device including a semiconductor layer containing crystals of the organic

semiconductor material. The manufacturing method includes forming a frame 12 (i)

substrate (base material) 11, and forming a semiconductor layer (crystal 13) to the inside

(ii) the frame 12. Step (ii) comprises crystal forming step was placed inside the frame 12

(liquid), forming crystals from a solution 13 21 21 solution and a liquid medium and an

organic semiconductor material.

申请人：パナソニック株式会社

地址：大阪府門真市大字門真１００６番地

国籍：JP

代理人：鎌田 耕一,黒田 茂

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本文标签： 专利 真市 知识产权

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